FPD用基板に成膜加工を施す工程 FPD技術において、ガラス基板やカラーフィルタ基板に施す成膜加工は、FPD本来の機能と性能を実現するうえで決定的に重要な工程です。クラモトの「膜をつくる｣技術は世界中のパネルメーカーから高い信頼を獲得しています。 [ガラス基板へのアンダーコート] STN用ガラス基板（ソーダライムガラス）に下地膜（酸化ケイ素膜）を付ける工程。 このアンダーコートにより、ガラス基板中のナトリウムイオン等のアルカリ成分が溶出するのを防ぎ、また、膜とガラスの密着性を上げる効果があります。 クラモトではスパッタリング法で成膜しています。 アンダーコート 膜厚 お客様仕様 透過率 お客様仕様   [ガラス基板への低抵抗ITO膜] 液晶ディスプレイの、液晶物質制御用電極として使用される透明な電極膜で、材質はITO(Indium Tin Oxide：インジウム錫酸化物)。液晶ディスプレイ用としては、低抵抗で透過率が高いことがポイント。当社のITO膜は量産ベースで比抵抗値1.2×10-4Ω・ｃｍ を達成し、量産品では業界最高を誇っています。 低抵抗ITO膜（例） 膜厚 240nm シート抵抗 5.0Ω / sq 以下 透過率 80% 以上 （λ = 550nm) [カラーフィルタ（CF）基板上のITO膜] CF側の共通透明電極となる膜。パターン加工後のCF上にメタルマスクでマスキングを行い、低温スパッタ法で成膜します。クラモトでは特に当社独自のCF表面特殊処理との連続加工により、欠陥レス・高密着性・抵抗値バラツキの少ないCF上ITO膜を提供しています。 お客様仕様 CF上ITO膜（例） シート抵抗 30Ω / sq 以下 透過率 95±3% （λ = 550nm) [高透過率タッチパネル用ITO膜] 抵抗膜方式向けタッチパネル用ITO膜。高透過率・高抵抗・極小抵抗値バラツキが要求されます。 [有機EL用平滑ITO膜] 有機ELの陽極（アノード電極）用ITO膜。有機ELは陽極のITO膜上に正孔輸送層、発光層、電子輸送層、陰極（カソード電極）を積層します。基礎となる陽極のITO膜表面に粗さがあると、その部分に電界が集中（過電流が発生）し、ダークスポット等の色々な問題につながります。 そこで当社では、これまの液晶事業で培った低抵抗ITO成膜技術と高精度研磨技術の融合により、陽極のITO膜の電気・光学特性に殆ど影響を与えずに平滑化ならびに欠陥除去加工を実現しました。 有機EL用平滑ITO膜 Ra ＜1nm [カラーフィルタ・ブラックマトリックス用超低反射メタル膜] カラーフィルタ(CF)のブラックマトリックス（BM）として使用される黒い膜。材質はクロム（Cr）系。BMはRGB（赤・緑・青の色材）の各ドットの周辺を窓枠のように黒く縁取り、光漏れ防止（遮光）の役割を果たし、同時にコントラスト向上や製造時の混色防止の役目も担っています。 特性的には、反射率が低く色が純黒で加工の容易な（エッチングがし易い）膜が求められます。 ＣＦ・ＢＭ用超低反射メタル膜 OD値（光学濃度） 3.8以上 Y値 1.0以下 [カラーフィルタ・ブラックマトリックス用新メタル膜] 同じくCFのBMとして使用される黒い膜。材質はCr系以外の倉元オリジナルメタル（特許）です。世界的な環境保全意識の高まりと共に環境にフレンドリーなBM膜を開発しました。 ＣＦ・ＢＭ用新メタル膜 OD値（光学濃度） 3.8以上 Y値 1.0以下 [銀合金系高反射メタル膜] 携帯電話やPDA等のモバイル機器向けの高反射メタル膜。新たにAuをドープし、 可視域（450nm〜700nm）においてフラットな反射特性を実現しました。 若干の色目帯びの欠点を解決し、カラーフィルタの設計性能を十分に引き出すことが可能となります。 また、下地膜不要の高い密着性とパターニングにも耐え得る十分な耐アルカリ性も備えています。 銀合金系高反射メタル膜 反射率 90％以上(λ=400〜700nm) 耐アルカリ性 10％以下(75℃-5wt%NaOH,30分) [銀合金系低抵抗電極膜] プラズマディスプレイ（PDP）や有機ELディスプレイ（OELD）向けの低抵抗電極膜。低消費電力へのニーズを受け、 Agに金属酸化物を添加し比抵抗4.0×10-6Ω・cmを達成しました。 更に、Ag合金系反射膜同様、高い密着性とパターニンに耐え得る耐アルカリ性も備えています。 銀合金系低抵抗電極膜 比抵抗 4.0×10-6Ω・cm 耐アルカリ性 5％以下(75℃-5wt%NaOH,30分)